VACUUM PLASMA SPRAYING OF TANTALUM AND NIOBIUM

被引：9

作者：

LUGSCHEIDER, E

ESCHNAUER, H

HAUSER, B

JAGER, D

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1985年 / 3卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.572860

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：2469 / 2474

页数：6

共 6 条

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