KINETICS OF EPITAXIAL SILICON DEPOSITION BY HYDROGEN REDUCTION OF CHLOROSILANES

被引：40

作者：

BRADSHAW, SE

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1080/00207216608937908

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：205 / &

共 20 条

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