MICROFABRICATION OF ANTI-REFLECTIVE CHROMIUM MASK BY GAS PLASMA

被引：16

作者：

ABE, H

NISHIOKA, K

TAMURA, S

NISHIMOTO, A

机构：

[1] MITSUBISHI ELECT CORP,CENT RES LAB,AMAGASAKI,HYOGO,JAPAN

[2] MITSUBISHI ELECT CORP,KITA ITAMI WORKS,ITAMI,HYOGO,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1976年 / 15卷

关键词：

D O I：

10.7567/JJAPS.15S1.25

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

收藏

页码：25 / 31

页数：7

相关论文

共 5 条

[1] ABE H, 1975, J JAPAN SOC APPL P S, V44, P287
[2] CHROMIUM-GLASS INTERFACE
FRIESER, RG
[J]. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1972, 119 (03) : 360 - &
[3] CHEMICAL ETCH RATE STUDIES ON SPUTTERED CHROMIUM FILMS
JANUS, AR
[J]. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1972, 119 (03) : 392 - &
[4] KROECK WH, 1970, 1970 P KOD SEM MICR, P54
[5] TOYODA Y, 1972, J J ELECTROCHEM SOC, V40, P531