SENSITIZATION OF POLYCRYSTALLINE SRTIO3 PHOTO-ANODES BY MECHANICAL POLISHING

被引:17
作者
CHANG, BT
CAMPET, G
CLAVERIE, J
HAGENMULLER, P
GOODENOUGH, JB
机构
[1] UNIV BORDEAUX 1,CNRS,CHIM SOLIDE LAB,F-33405 TALENCE,FRANCE
[2] INORGAN CHEM LAB,OXFORD OX1 3QR,ENGLAND
关键词
D O I
10.1016/0022-4596(83)90119-6
中图分类号
O61 [无机化学];
学科分类号
070301 ; 081704 ;
摘要
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页数:9
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