OXYGEN ANNEALING OF SILVER FOR OBTAINING LOW ELECTRICAL-RESISTIVITY - TECHNIQUE AND INTERPRETATION

被引：23

作者：

EHRLICH, AC ^{[1
]}

机构：

[1] USN,RES LAB,WASHINGTON,DC 20390

来源：

关键词：

D O I：

10.1007/BF00552819

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：1064 / 1072

页数：9

共 9 条

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[No title captured]