TEMPERATURE CHANGES IN THIN METAL FILMS DURING VAPOR DEPOSITION

被引：60

作者：

BELOUS, MV

WAYMAN, CM

机构：

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1967年 / 38卷 / 13期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1709287

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：5119 / &

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