MULTILAYER X-RAY MIRRORS PREPARED BY TRIODE SPUTTERING USING A NEW METHOD OF FILM THICKNESS MONITORING

被引：21

作者：

SELLA, C ^{[1
]}

YOUN, KB ^{[1
]}

BARCHEWITZ, R ^{[1
]}

ARBAOUI, M ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV PARIS 06,CHIM PHYS LAB,F-75230 PARIS 05,FRANCE

来源：

VACUUM | 1986年 / 36卷 / 1-3期

关键词：

D O I：

10.1016/0042-207X(86)90284-8

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：121 / 123

页数：3

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共 4 条

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