THE OXIDATION BEHAVIOR OF TANTALUM AT 700-DEGREES-C-1000-DEGREES-C

被引：52

作者：

KOFSTAD, P

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2425799

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：491 / 501

页数：11

共 22 条

[1]

ALBRECHT WM, 1961, T METALL SOC AIME, V221, P110

[2]

BRADY JF, METALLURGICAL SOC C, V10, P719

[3]

DARKEN L, 1953, PHYSICAL CHEM METALS, P445

[4]

GEBHARDT E, 1959, Z METALLKD, V50, P248

[5]

GEBHARDT E, 1958, PLANSEE P REUTTE, P280

[6]

GOWGILL MG, 1960, J LESS COMMON METALS, V2, P233

HAYCOCK, EW .

[8]

KOFSTAD P, 1963, J I MET, V91, P209

[9]

KOFSTAD P, 1962, J I MET, V90, P253

[10] ON THE DEFECT STRUCTURE OF TA2O5 [J].

KOFSTAD, P .