PHOTOIONIZATION HOLE BURNING AND NONLINEAR ZEEMAN EFFECT IN CAF2-SM2+

被引:65
作者
MACFARLANE, RM
SHELBY, RM
机构
[1] IBM Research Laboratory, San Jose, CA 95193, United States
关键词
D O I
10.1364/OL.9.000533
中图分类号
O43 [光学];
学科分类号
070207 ; 0803 ;
摘要
12
引用
收藏
页码:533 / 536
页数:4
相关论文
共 14 条