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THE EFFECT OF IMPLANTATION TEMPERATURE ON DEFECT PRODUCTION IN SIMOX STRUCTURES
被引：1
作者：
ENNIS, TJ
BARKLIE, RC
REESON, K
HEMMENT, PLF
机构：
关键词：
D O I：
10.1088/0268-1242/4/8/005
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
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页码：626 / 632
页数：7
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