INTERPRETATION OF KL2,3L2,3 RADIATIVE AUGER THRESHOLDS IN METALS AND SEMICONDUCTORS

被引：10

作者：

ABERG, T ^{[1
]}

UTRIAINEN, J ^{[1
]}

机构：

[1] HELSINKI UNIV TECHNOL,LAB PHYS,02150 OTANIEMI,FINLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0038-1098(75)90427-5

中图分类号：

O469 [凝聚态物理学];

学科分类号：

070205 ;

摘要：

引用

页码：571 / 573

页数：3

共 8 条

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ABERG, T ;

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