TRANSIENT ELECTRONIC TRANSPORT IN INP UNDER THE CONDITION OF HIGH-ENERGY ELECTRON INJECTION

被引:24
作者
BRENNAN, K
HESS, K
TANG, JYF
IAFRATE, GJ
机构
[1] UNIV ILLINOIS, COORDINATED SCI LAB, URBANA, IL 61801 USA
[2] IBM CORP, THOMAS J WATSON RES CTR, YORKTOWN HTS, NY 10598 USA
[3] USA, ERADCOM, ELECTR TECHNOL & DEVICES LAB, DIV ELECTRON MAT RES, FT MONMOUTH, NJ 07703 USA
关键词
D O I
10.1109/T-ED.1983.21440
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:1750 / 1754
页数:5
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