TEM OBSERVATION OF MICROSTRUCTURE IN SPUTTERED CO-CR FILM

被引:59
作者
MAEDA, Y
HIRONO, S
ASAHI, M
机构
来源
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1985年 / 24卷 / 12期
关键词
D O I
10.1143/JJAP.24.L951
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:L951 / L953
页数:3
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