PLASMA PRODUCTION WITH DC DISCHARGE PLANAR MAGNETRON DEVICE FOR THIN-FILM PREPARATION

被引：23

作者：

FUJITA, H ^{[1
]}

YAGURA, S ^{[1
]}

UENO, H ^{[1
]}

NAGANO, M ^{[1
]}

机构：

[1] SAGA UNIV,DEPT IND CHEM,SAGA 840,JAPAN

来源：

关键词：

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

D O I：

10.1088/0022-3727/19/9/014

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1699 / 1706

页数：8

共 16 条

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