MULTILAYER METALLIZATION WITH PLANAR INTERCONNECT STRUCTURE UTILIZING CVD AL2O3 FILM

被引：6

作者：

MUTOH, H ^{[1
]}

MIZOKAMI, Y ^{[1
]}

MATSUI, H ^{[1
]}

HAGIWARA, S ^{[1
]}

INO, M ^{[1
]}

机构：

[1] OKI ELECT IND CO LTD,HACHIOJI,TOKYO,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2134383

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：987 / 992

页数：6

共 6 条

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