GAAS/GAALAS SELECTIVE MOCVD EPITAXY AND PLANAR ION-IMPLANTATION TECHNIQUE FOR COMPLEX INTEGRATED OPTOELECTRONIC CIRCUIT APPLICATIONS

被引:16
作者
KIM, ME
HONG, CS
KASEMSET, D
MILANO, RA
机构
关键词
D O I
10.1109/EDL.1984.25926
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
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页码:306 / 309
页数:4
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