E-BEAM METROLOGY OF CHROMIUM MASTER MASKS AND OF MASKS FOR X-RAY-LITHOGRAPHY

被引：2

作者：

BRUENGER, WH

BETZ, H

HEUBERGER, A

MULLER, KP

机构：

[1] Fraunhofer-Inst fuer, Mikrostrukturtechnik, Berlin, West, Ger, Fraunhofer-Inst fuer Mikrostrukturtechnik, Berlin, West Ger

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583235

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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