PLASMA DENSITY DEPENDENCE OF RF ION SOURCES

被引：2

作者：

OGAWA, K

KAWASAKI, S

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.6.279

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：279 / &

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