HIGH-PERFORMANCE POSITIVE PHOTORESISTS

被引：13

作者：

FURUTA, A ^{[1
]}

HANABATA, M ^{[1
]}

UEMURA, Y ^{[1
]}

机构：

[1] SUMITOMO CHEM CO LTD,OSAKA RES LAB,OSAKA,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1986年 / 4卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583349

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：430 / 436

页数：7