GROWTH OF REFRACTORY OXIDE-FILMS USING SOLID OXYGEN SOURCES IN A MOLECULAR-BEAM EPITAXY APPARATUS

被引：10

作者：

STALL, RA

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1983年 / 1卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.582515

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页码：135 / 137

页数：3

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共 3 条

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