4-EXPOSURE HOLOGRAM MOIRE INTERFEROMETRY AND SPECKLE-PATTERN INTFEROMETRY - COMPARISON

被引：4

作者：

HARIHARAN, P ^{[1
]}

HEGEDUS, ZS ^{[1
]}

机构：

[1] CSIRO,NATL MEASUREMENT LAB,SYDNEY 2008,AUSTRALIA

来源：

APPLIED OPTICS | 1975年 / 14卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1364/AO.14.000022

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：22 / 23

页数：2

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共 3 条

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