HIGH-RATE DEPOSITION OF PHOTOSENSITIVE A-SIC-H USING A CARBON SOURCE OF C2H2

被引：11

作者：

NAKAYAMA, Y

AKITA, S

NAKANO, M

KAWAMURA, T

机构：

来源：

JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS | 1987年 / 97-8卷

关键词：

D O I：

10.1016/0022-3093(87)90347-4

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

收藏

页码：1447 / 1450

页数：4

相关论文

共 3 条

[1]

FUKADA N, 1983, JARECT, V6, P149

[2]

FUKADA N, 1982, 29TH P SPRING ANN M, P500

[3]

KUDOH M, 1986, 1986 P INT S SOC INF