PLANAR MAGNETRON SPUTTERING CATHODE WITH DEPOSITION RATE DISTRIBUTION CONTROLLABILITY

被引：11

作者：

ABE, K

KOBAYASHI, S

KAMEL, T

SHIMIZU, T

TATEISHI, H

AIUCHI, S

机构：

来源：

THIN SOLID FILMS | 1982年 / 96卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(82)90246-2

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：225 / 233

页数：9

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共 4 条

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1900, Patent No. 659270