GAS INJECTION SYSTEM IN THE TARA CENTRAL CELL

被引：4

作者：

BRAU, K

GOODRICH, P

POST, RS

SEVILLANO, E

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1986年 / 4卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.573455

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

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页码：1079 / 1083

页数：5

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HERSHKOWITZ, N ;

NELSON, BA ;

JOHNSON, J ;

FERRON, JR ;

PERSING, H ;

CHAN, C ;

GOLOVATO, SN ;

CALLEN, JD ;

WOO, J .

PHYSICAL REVIEW LETTERS, 1985, 55 (09) :947-950

[2]

POST RS, 1984, 10TH P INT C PLASM P