HIGH CHARGE STATE HEAVY ION SOURCES

被引：5

作者：

BENNETT, JRJ

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/TNS.1971.4325959

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：55 / +

页数：1

共 69 条

[1] HOT-ELECTRON PLASMA BY BEAM-PLASMA INTERACTION [J].

ALEXEFF, I ;

SHIPLEY, ED ;

NEIDIGH, RV ;

PEED, WF ;

HARRIS, EG .

[2]

ALEXEFF I, 1970, ORNLTM2981

[3] ION SOURCE FOR THE PRODUCTION OF MULTIPLY CHARGED HEAVY IONS [J].

ANDERSON, CE ;

EHLERS, KW .

[4]

ARD WB, 1965, P C PLASMA PHYSICS C

[5]

ARDENNE MV, 1956, ATOMKERN ENERGIE, V4, P121

[6]

BASILE R, 1962, J PHYS-PARIS, V23, pA111

[7]

BENNETT JP, UNPUBLISHED

[8]

BENNETT JRJ, 1969, 1 INT C ION SOURC SA

[9]

BENNETT JRJ, TO BE PUBLISHED

[10]

BOHM D, MAGNETIC FIELDS