VARIATION OF FIELD EFFECT MOBILITY AND HALL EFFECT MOBILITY WITH THE THICKNESS OF THE DEPOSITED FILMS OF TELLURIUM

被引:15
作者
GHOSH, SK
机构
关键词
D O I
10.1016/0022-3697(61)90057-9
中图分类号
O6 [化学];
学科分类号
0703 ;
摘要
引用
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