NIOBIUM THIN-FILM JOSEPHSON JUNCTIONS USING A SEMICONDUCTOR BARRIER

被引:29
作者
KELLER, WH [1 ]
NORDMAN, JE [1 ]
机构
[1] UNIV WISCONSIN,DEPT ELECT ENGN,MADISON,WI 53706
关键词
D O I
10.1063/1.1662027
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:4732 / 4738
页数:7
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