A NEW STRIATION ETCH FOR SILICON

被引：8

作者：

KAMPER, M

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2407481

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：261 / &

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共 5 条

[1]

Ciszek T. F., 1969, Semiconductor silicon, P156

[2]

CISZEK TF, 1969, SEMICONDUCTOR SILICO, P166

EDWARDS, WD .

[4]

MUHLBAUER A, 1965, Z NATURFORSCH PT A, VA 20, P1089

VIEWEGGUTBERLET, F .