STABLE FREE-RADICALS .12. DIRECT AND SENSITIZED NITRONYL NITROXIDE PHOTOCHEMISTRY IN APROTIC SOLVENT

被引:20
作者
ULLMAN, EF [1 ]
CALL, L [1 ]
TSENG, SS [1 ]
机构
[1] SYVA RES INST,PALO ALTO,CA 94304
关键词
D O I
10.1021/ja00786a063
中图分类号
O6 [化学];
学科分类号
0703 ;
摘要
引用
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页码:1677 / 1679
页数:3
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