STABLE FREE-RADICALS .12. DIRECT AND SENSITIZED NITRONYL NITROXIDE PHOTOCHEMISTRY IN APROTIC SOLVENT

被引：20

作者：

ULLMAN, EF ^{[1
]}

CALL, L ^{[1
]}

TSENG, SS ^{[1
]}

机构：

[1] SYVA RES INST,PALO ALTO,CA 94304

来源：

JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 1973年 / 95卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1021/ja00786a063

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

引用

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页码：1677 / 1679

页数：3

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共 12 条

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