Physical properties of thin metallic films. III. Some factors affecting the resistance of sputtered platinum films.

被引：7

作者：

Koller, LR ^{[1
]}

机构：

[1] Cornell Univ, Ithaca, NY USA

来源：

PHYSICAL REVIEW | 1921年 / 18卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1103/PhysRev.18.221

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

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页码：221 / 235

页数：15

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