未找到相关数据
CONFORMALITY OF SIO2-FILMS FROM TETRAETHOXYSILANE-SOURCED REMOTE MICROWAVE PLASMA-ENHANCED CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
被引：11
作者：
RAUPP, GB
LEVEDAKIS, DA
CALE, TS
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
|
1995年
/
13卷
/
03期
关键词：
D O I：
10.1116/1.579806
中图分类号：
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ;
080502 ;
摘要：
引用
收藏
页码：676 / 680
页数：5
相关论文