THE DEPOSITION OF SILICON FILMS BY PYROLYTIC DECOMPOSITION OF SIF2 GAS

被引：20

作者：

JANAI, M ^{[1
]}

AFTERGOOD, S ^{[1
]}

WEIL, RB ^{[1
]}

PRATT, B ^{[1
]}

机构：

[1] TECHNION ISRAEL INST TECHNOL,SOLID STATE INST,IL-3200 HAIFA,ISRAEL

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1981年 / 128卷 / 12期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2127324

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：2660 / 2665

页数：6

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