X-RAY STUDY OF METAL-INSULATOR TRANSITION IN NIS2

被引：27

作者：

ENDO, S ^{[1
]}

MITSUI, T ^{[1
]}

MIYADAI, T ^{[1
]}

机构：

[1] HOKKAIDO UNIV,FAC SCI,DEPT PHYS,SAPPORO,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0375-9601(73)90671-3

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：29 / 30

页数：2

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共 4 条

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