USE OF RING GAP PLASMATRON FOR HIGH-RATE SPUTTERING

被引：48

作者：

SCHILLER, S ^{[1
]}

HEISIG, U ^{[1
]}

GOEDICKE, K ^{[1
]}

机构：

[1] FORSCH INST MANFRED VON ARDENNE,DDR-8051 DRESDEN,GER DEM REP

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(77)90134-1

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：327 / 334

页数：8

相关论文

共 16 条

[1]

CHAPIN J, 1974, DOCUMENTATION VACUUM

[2]

CORMIA RL, 1974, 6TH P INT C EL ION B, P248

[3]

DORODNOV AM, 1973, FISIKA PRIMENENIE PL

[4]

HEISIG U, 1975, 5TH C PHYS TECHN HOC

[5]

HEISIG U, 1976, INT C METALLURGICAL

[6]

HOLLAND L, 1961, VACUUM DEPOSITION TH, P154

[7]

Kesaev I.G., 1959, ZH TEKH FIZ, V29, P287

[8]

LAEGREID N, 1960, 6TH NAT S VAC TECHN, P164

[9]

ROL PK, 1957, P S ISOTOPE SEPARATI, P657

[10]

SCHILLER S, 1975, 3RD INT C THIN FILMS