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NEW METHOD FOR DOPING OF THIN INSULATING FILMS AND COMPARISON BETWEEN ELECTRICAL CHARACTERISTICS OF UNDOPED AND DOPED FILMS
被引：2
作者：
ANTULA, J
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY
|
1969年
/
6卷
/
04期
关键词：
D O I：
10.1116/1.1315700
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：605 / &
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