OHMIC CONTACTS ON N+- AND P+-SI BY ION-IMPLANTATION

被引：5

作者：

FEUERSTEIN, A ^{[1
]}

KALBITZER, S ^{[1
]}

机构：

[1] MAX PLANCK INST KERN PHYS, HEIDELBERG, WEST GERMANY

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1973年 / 22卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1654456

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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[1]

KRAUTLE H, 1971, 2 P INT C ION IMPL S