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FABRICATION AND STRUCTURE OF EPITAXIAL ER SILICIDE FILMS ON (111) SI
被引:109
作者
:
DAVITAYA, FA
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DAVITAYA, FA
PERIO, A
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PERIO, A
OBERLIN, JC
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OBERLIN, JC
CAMPIDELLI, Y
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CAMPIDELLI, Y
CHROBOCZEK, JA
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CHROBOCZEK, JA
机构
:
来源
:
APPLIED PHYSICS LETTERS
|
1989年
/ 54卷
/ 22期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.101517
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:2198 / 2200
页数:3
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