AR+ LASER CRYSTALLIZATION OF A-SI-H FILM FOR ACTIVE LAYER OF TFT

被引：6

作者：

HUANG, XF ^{[1
]}

LI, ZF ^{[1
]}

GU, Q ^{[1
]}

BOA, XM ^{[1
]}

CHEN, KJ ^{[1
]}

机构：

[1] NANJING UNIV,SOLID STATE MICROSTRUCT LAB,NANJING,PEOPLES R CHINA

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-3093(89)90366-9

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

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页数：3