INVESTIGATION OF LASER-ENHANCED ELECTROPLATING MECHANISMS

被引：110

作者：

PUIPPE, JC ^{[1
]}

ACOSTA, RE ^{[1
]}

VONGUTFELD, RJ ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP, THOMAS J WATSON RES CTR, YORKTOWN HTS, NY 10598 USA

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1981年 / 128卷 / 12期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2127287

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：2539 / 2545

页数：7

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共 6 条

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