VACUUM CHEMICAL EPITAXY - HIGH THROUGHPUT GAAS EPITAXY WITHOUT ARSINE

被引:6
作者
FRAAS, LM
GIRARD, GR
SUNDARAM, VS
MASTER, C
STALL, R
机构
来源
III-V HETEROSTRUCTURES FOR ELECTRONIC / PHOTONIC DEVICES | 1989年 / 145卷
关键词
D O I
10.1557/PROC-145-253
中图分类号
O7 [晶体学];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
引用
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页数:6
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