PHOTOSENSITIVE SYSTEMS FOR MICROLITHOGRAPHY BASED ON ORGANOMETALLIC PHOTOINITIATORS

被引：24

作者：

FINTER, J ^{[1
]}

RIEDIKER, M ^{[1
]}

ROHDE, O ^{[1
]}

ROTZINGER, B ^{[1
]}

机构：

[1] CIBA GEIGY AG,CENT RES LABS,CH-4002 BASEL,SWITZERLAND

来源：

MAKROMOLEKULARE CHEMIE-MACROMOLECULAR SYMPOSIA | 1989年 / 24卷

关键词：

D O I：

10.1002/masy.19890240118

中图分类号：

O63 [高分子化学（高聚物）];

学科分类号：

070305 ; 080501 ; 081704 ;

摘要：

引用

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页数：11