PROPERTIES OF TITANIUM BORIDE FILMS PREPARED BY REACTIVE SPUTTERING

被引：4

作者：

BLOM, HO ^{[1
]}

LARSSON, T ^{[1
]}

BERG, S ^{[1
]}

OSTLING, M ^{[1
]}

机构：

[1] ROYAL INST TECHNOL,S-10044 STOCKHOLM 70,SWEDEN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1988年 / 6卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.575311

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：1693 / 1693

页数：1