FERROMAGNETIC-RESONANCE OF NICKEL THIN-FILMS INFLUENCED BY H-2 AND CO ADSORPTION

被引：8

作者：

BLUM, JK ^{[1
]}

GOPEL, W ^{[1
]}

机构：

[1] TECH UNIV HANOVER,INST PHYS CHEM,D-3000 HANOVER,FED REP GER

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0304-8853(77)90106-8

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：186 / 191

页数：6

共 45 条

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