LASER IRRADIATION OF FURNACE PREANNEALED (111) ION-IMPLANTED SILICON

被引：3

作者：

CAMPISANO, SU ^{[1
]}

FOTI, G ^{[1
]}

机构：

[1] CNR,LAMEL,I-40126 BOLOGNA,ITALY

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.91453

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：279 / 281

页数：3

共 7 条

FOTI, G ;

RIMINI, E .

APPLIED PHYSICS, 1978, 15 (04) :365-369

[2]

GYULAY G, 1978, LASER SOLID INTERACT

[3]

Mayer J. W., 1970, ION IMPLANTATION SEM

[4]

MULLER H, 1975, APPL PHYS LETT, V26, P292, DOI 10.1063/1.88161

[5]

PRONKO P, 1978, PHILOS MAG A, V37, P605

[6]

RIMINI E, 1978, LASER EFFECTS ION IM

[7]

Ziegler J. F., 1974, Atomic Data and Nuclear Data Tables, V13, P463, DOI 10.1016/0092-640X(74)90009-6