NEAR-ZERO MAGNETOSTRICTION NIFE FILMS DEPOSITED BY ION-BEAM SPUTTERING

被引：4

作者：

LO, J

HWANG, C

HUANG, TC

CAMPBELL, R

机构：

[1] IBM, San Jose, CA, USA, IBM, San Jose, CA, USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/TMAG.1987.1065417

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

FILMS

引用

页码：3065 / 3067

页数：3

共 7 条

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