OXIDE-GROWTH IN AN RF PLASMA

被引：37

作者：

FROMHOLD, AT ^{[1
]}

BAKER, M ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP, THOMAS J WATSON RES CTR, YORKTOWN HTS, NY 10598 USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.327627

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：6377 / 6392

页数：16