RESIDUES REMAINING AFTER RF PLASMA PHOTORESIST REMOVAL

被引：10

作者：

HUGHES, HG ^{[1
]}

HUNTER, WL ^{[1
]}

RITCHIE, K ^{[1
]}

机构：

[1] MOTOROLA INC,SEMICOND PROD DIV,CENT RES LABS,PHOENIX,AZ 85008

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1973年 / 120卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2403410

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：99 / 101

页数：3

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共 4 条

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