NEW HIGH-TEMPERATURE STABLE POSITIVE PHOTORESISTS BASED ON HYDROXY POLYIMIDES AND POLYAMIDES CONTAINING THE HEXAFLUOROISOPROPYLIDENE (6-F) LINKING GROUP

被引:66
作者
KHANNA, DN
MUELLER, WH
机构
关键词
D O I
10.1002/pen.760291414
中图分类号
TQ [化学工业];
学科分类号
0817 ;
摘要
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页数:6
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