HOT IMPLANTATION OF NITROGEN IONS INTO GAAS1-XPX (X = 0.36)

被引:11
作者
MAKITA, Y [1 ]
GONDA, S [1 ]
TANOUE, H [1 ]
TSURUSHIMA, T [1 ]
MAEKAWA, S [1 ]
机构
[1] ELECTROTECHN LAB, TANASHI, TOKYO, JAPAN
关键词
D O I
10.1143/JJAP.13.563
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:563 / 564
页数:2
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