INTERFACE EXTINCTION AND SUBSURFACE PEAKING OF THE RADIATION-PATTERN OF A LINE SOURCE

被引：24

作者：

ENGHETA, N ^{[1
]}

PAPAS, CH ^{[1
]}

ELACHI, C ^{[1
]}

机构：

[1] CALTECH,JET PROP LAB,PASADENA,CA 91109

来源：

APPLIED PHYSICS B-PHOTOPHYSICS AND LASER CHEMISTRY | 1981年 / 26卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1007/BF00692543

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页数：8